【政策解读】《增城区促进集成电路产业发展扶持办法》 《增城区促进集成电路产业发展扶持办法》政策解读 window.audiojs.events.ready(function() { window.audiojs.create(document.getElementById("audio_68949381426504820")); }); 　　一、文件编制背景和依据　　为加快培育发展我区集成电路产业，根据《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》、《广东省加快半导体及集成电路产业发展的若干意见》、《广东省培育半导体及集成电路战略性新兴产业集群行动计划（2021-2025年）》、《广州市加快发展集成电路产业的若干措施》等有关有关文件要求，我局结合我区实际，制定《增城区促进集成电路产业发展扶持办法》。　　二、文件出台和实施的目标　　引进和培育发展一批集成电路产业链项目，促进集成电路产业人才集聚，扩大集成电路市场规模，初步构建较为完善的集成电路产业集群，助力广州建设全国集成电路产业集聚区、人才汇聚地、创新示范区。　　三、文件扶持对象　　适用于注册地、经营场所均在增城区，具有独立法人资格，无违法违规行为，按照国民经济行业分类，主营业务为集成电路领域设计、制造、封测、装备和材料生产及研发，公共技术服务等经营活动的集成电路相关企业。　　四、文件亮点和特色　　（一）健全完善产业链条。一是支持项目引进。对新引进的设计、装备和材料类企业按企业实缴资本的5％给予奖励，最高不超过300万元。对新引进的制造、封测类企业按照企业落户当年完成固定资产投资额的10％给予奖励，最高不超过500万元。二是支持项目落地。对企业购买EDA设计工具软件、采购公共服务平台设计服务或利用公共服务平台使用EDA设计工具软件的，按照实际发生费用的50％给予补贴，每家企业每年最高不超过200万元。对首次完成全掩膜流片的企业，按流片费用30%，给予每家企业每年不超过500万元的补贴；对于使用MPW（多项目晶圆）流片进行研发的企业，按MPW直接费用的80%，给予每家企业每年不超过500万元的补贴。对企业开展工程片、设备、材料的可靠性、兼容性测试验证、失效分析以及认证等，按实际发生费用的50％给予补贴，每家企业每年最高不超过200万元。三是支持项目经营。对设计、装备和材料类企业年度主营业务收入首次突破2000万元、5000万元、1亿元、5亿元的，分别给予最高不超过50万元、100万元、200万元、300万元的一次性奖励。对制造、封测类企业年度主营业务收入首次突破5000万元、1亿元、5亿元、10亿元的，分别给予最高不超过80万元、150万元、200万元、300万元的一次性奖励。　　（二）提升产业创新水平。一是支持研发投入，按研发投入的3%给予每家企业每年最高500万元补贴，对开展核心技术和产品攻关的，按研发投入的10%给予每家企业每年最高1000万元补贴。二是支持平台建设，按平台固定资产投入的40%给予奖励，每家奖励最高不超过2000万元。三是支持人才培育。对当年主营业务收入达到5000万元、1亿元、10亿元且实现正增长的集成电路企业，分别给予最高10个、20个、30个高管和产业高端人才奖励名额，奖励标准按人才本人地方经济贡献的80%，每人每年最高300万元。对企业开展技能培训按照实际发生费用的30%补贴，单个企业每年最高不超过50万元。　　（三）全面保障生产要素。一是保障办公用地。对租用场地按每平方米补贴实际租金的50%，最高补贴3000平方米，补贴期限3年，每家企业每年最高补贴100万元。对购置场地按购买自用建筑物费用的10%一次性给予补贴，补贴金额最高不超过500万元。二是保障生产用电保障。按照“先交后补”的方式，给予用电费用20％的补贴，每家企业每年最高不超过500万元。三是保障项目建设。积极争取国家、省、市集成电路产业基金以及政策性银行对我区集成电路重大项目的资金支持，推动我区集成电路重大项目列入省重点建设项目计划、市重点建设项目和全市“攻城拔寨、落地生根、开花结果”工作范畴，推进项目加快建设。　　五、专业名词解释　　集成电路：采用特定的生产工艺，把电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在半导体晶片或介质基片上，并封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型电子器件或部件。　　EDA：电子设计自动化，是指设计者在EDA软件平台上用硬件描述语言完成设计文件，由计算机自动地完成逻辑编译、化简、分割、综合、优化、布局、布线和仿真，实现对于特定目标芯片的适配编译、逻辑映射和编程下载等功能。　　MPW：多项目晶圆，指将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片，制造完成后，每个设计可以得到数十片芯片样品。　　Full Mask：全流程掩膜，Full Mask是集成电路的一种流片（将设计结果交出去进行生产制造）方式，即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务。　　IP：指可以重复使用的具有自主知识产权功能的集成电路设计模块。